Intel mengirimkan prosesor komersial pertama yang dibuat dengan alat litografi generasi berikutnya
Intel Foundry telah menjadi pembuat chip pertama yang memproduksi dan mengirimkan produk logika volume tinggi menggunakan litografi High NA extreme ultraviolet (EUV) ASML, menandai langkah besar menuju adopsi komersial teknologi pembuatan chip generasi berikutnya. Pencapaian ini berlaku untuk subset prosesor Intel Core Ultra Series 3, dengan nama kode Panther Lake, yang dibangun pada node proses Intel 18A milik perusahaan. Intel mengatakan lapisan Intel 18A tertentu kini memiliki kualifikasi ganda pada platform High NA EUV ASML di fasilitasnya di Oregon, dengan pengiriman produk ke pelanggan dengan hasil yang sesuai dengan platform NXE yang ada. Pengumuman ini menandakan pergeseran High NA EUV dari penelitian dan pengujian awal menjadi produksi manufaktur. Intel dan ASML mengatakan teknologi ini digunakan pada lapisan chip tertentu untuk mengumpulkan data manufaktur dan lebih mengoptimalkan pengaturan sistem, waktu aktif, dan implementasi produksi sebelum penerapan yang lebih luas pada node proses di masa depan. EUV NA Tinggi adalah evolusi berikutnya dari litografi EUV, yang menawarkan resolusi lebih tinggi dan kontrol proses yang lebih baik untuk membentuk pola fitur chip yang semakin kecil. Teknologi ini diharapkan dapat membantu produsen semikonduktor membangun chip yang lebih padat dan kompleks sekaligus mendukung kemajuan komputasi dan kecerdasan buatan di masa depan. Pencapaian tonggak produksi ASML mengatakan penerapan ini dibangun berdasarkan kolaborasi selama beberapa dekade dengan Intel untuk memajukan manufaktur semikonduktor. Pencapaian produksi terbaru ini menyusul pemasangan sistem High NA EUV komersial pertama di industri oleh Intel di lokasi penelitian dan pengembangannya di Hillsboro, Oregon, pada tahun 2024. Perusahaan ini kemudian menjadi pihak pertama yang memasang dan memenuhi syarat sistem TWINSCAN EXE:5200B generasi kedua ASML, yang menghasilkan throughput lebih tinggi, akurasi overlay yang lebih baik, dan sumber cahaya yang ditingkatkan. Prosesor Panther Lake diproduksi dengan Intel 18A, dengan High NA EUV yang digunakan untuk memola lapisan chip yang dipilih. Intel mengatakan pendekatan ini memberikan pengalaman manufaktur sambil mempertahankan kinerja produksi pada platform yang ada. “Dengan peningkatan resolusi dan kontrol proses yang lebih baik, pengenalan High NA EUV menandai perkembangan substansial dalam litografi semikonduktor,” kata Christophe Fouquet, Presiden dan CEO ASML. “Kami bangga berperan dalam mewujudkan pola yang lebih kecil dan padat yang akan mempercepat kemajuan AI dan teknologi baru lainnya.” Perusahaan-perusahaan tersebut mengatakan wawasan yang diperoleh dari produksi akan membantu menyempurnakan pengaturan sistem, waktu kerja, dan proses manufaktur, sehingga membuka jalan bagi adopsi teknologi yang lebih luas pada manufaktur semikonduktor generasi mendatang. Menskalakan node masa depan Intel menggambarkan pencapaian ini sebagai langkah penting dalam mengintegrasikan High NA EUV ke dalam produksi chip komersial dalam skala besar sambil menjaga fleksibilitas manufaktur untuk teknologi proses masa depan. “Pencapaian ini mencerminkan kolaborasi teknis yang erat antara Intel dan ASML dan menunjukkan bagaimana High NA EUV dapat diintegrasikan ke dalam manufaktur semikonduktor tingkat lanjut dalam skala besar,” kata Naga Chandrasekaran, Wakil Presiden Eksekutif dan Manajer Umum Intel Foundry. Menurut Intel, kualifikasi High NA EUV pada lapisan produk Intel 18A tertentu memungkinkan perusahaan untuk terus memberikan output produksi sambil mengevaluasi bagaimana teknologi tersebut dapat mendukung node proses masa depan dengan kinerja lebih tinggi, kepadatan transistor lebih besar, dan fleksibilitas manufaktur yang lebih baik. Dengan Panther Lake yang kini memasuki produksi bervolume tinggi menggunakan High NA EUV, Intel menjadi perusahaan pertama yang mengirimkan produk logika bervolume tinggi komersial yang dibuat dengan teknologi tersebut, memberikan demonstrasi awal tentang bagaimana litografi generasi berikutnya dapat beralih dari pengembangan ke produksi chip skala besar.
Diterbitkan : 2026-07-15 22:45:00
sumber : interestingengineering.com
